
È iniziata la cerimonia di costruzione della fabbrica di componenti per semiconduttori a base di carburo di silicio
Luce delle stelle di ShenyangAvanzatoCeramics intraprende l'espansione dell'ecosistema dei semiconduttori con nuovi impianti di produzione
Shenyang Starlight Advanced Ceramics Co., Ltd., azienda cinese pioniera nella produzione di forni in carburo di silicio, fondata nel 1995 attraverso una joint venture sino-tedesca con Fine Technical Ceramics GmbH, ha annunciato oggi un salto strategico nell'integrazione della supply chain dei semiconduttori. L'azienda ha avviato la costruzione del suo impianto di produzione di componenti semiconduttori e del laboratorio CVD (Chemical Vapor Deposition) il 10 giugno 2025, segnando una fase di trasformazione nel suo percorso trentennale di innovazione tecnologica.
Panoramica dell'espansione strategica
Questo progetto di investimento da 350 milioni di dollari rafforza l'impegno di Shenyang Starlight nell'integrazione verticale nella produzione di semiconduttori:
Impianto per componenti principali: dedicato alla produzione in serie di componenti in carburo di silicio ad altissima purezza per la movimentazione di wafer, la gestione termica e le camere di processo.
CVD Workshop: specializzato in rivestimenti avanzati in carburo di silicio per apparecchiature a semiconduttore, compresi strati resistenti al plasma e anticorrosione.
Centro di ricerca e sviluppo integrato: ospita laboratori di analisi dei materiali e sistemi di simulazione dei processi all'avanguardia.
Capacità tecniche
Le nuove strutture sfrutteranno i punti di forza storici di Shenyang Starlight:
Competenza sui materiali: 30 anni di esperienza nella produzione di RSiC (carburo di silicio ricristallizzato) e NSiC (carburo di silicio legato al nitruro)
Tradizione di qualità: primo produttore cinese di forni al carburo di silicio certificato ISO 9001 (2002)
Ingegneria di precisione: precisione di lavorazione inferiore a 0,01 mm comprovata nei componenti di grado semiconduttore
Riconoscimento globale: quota di esportazione del 35% in oltre 20 paesi (secondo i dati doganali del 2024)
Specifiche della struttura
Impianto di componenti semiconduttori
Standard per camere bianche: ambienti ISO classe 5-7
Capacità produttiva: oltre 50.000 pezzi di precisione all'anno
Prodotti principali:
Supporti per wafer da 12 pollici (diametro esterno 450 mm)
Tubi di processo CVD/CVI
Componenti ad anello per sistemi di incisione
Laboratorio di rivestimento CVD
Tecnologie di deposizione: capacità PECVD, LPCVD e ALD
Prestazioni del rivestimento:
≤0,05μm di rugosità superficiale
Rivestimenti con purezza del 99,999%
Durata di oltre 10.000 cicli
Impatto sul settore
Questa espansione risponde alle esigenze critiche della catena di fornitura:
Localizzazione: riduzione del 40% della dipendenza dai componenti semiconduttori importati
Innovazioni tecniche: sviluppo di rivestimenti proprietari in carburo di silicio ad alta entropia
Sostenibilità: implementazione di sistemi di riciclo dei materiali a circuito chiuso
Collaborazione di ricerca e sviluppo
Il progetto si basa sulle partnership esistenti con:
Università Tsinghua: sviluppo congiunto di sistemi di ottimizzazione dei processi basati sull'intelligenza artificiale
Northeastern University: modellazione avanzata dello stress termico per componenti di grande formato
CAS Institutes: Compositi a matrice ceramica di nuova generazione
Cronologia del progetto
Giugno 2025: completamento delle fondamenta
Q4 2025: Installazione delle apparecchiature
T2 2026: produzione pilota
2027: funzionamento a piena capacità
Prospettiva di leadership
Questa espansione rappresenta la nostra evoluzione da specialisti di forni ad architetti di soluzioni per semiconduttori, ha affermato il Sig. Liu Changchun, Presidente. Integrando le capacità CVD con la produzione di precisione, siamo in grado di fornire soluzioni di sottosistemi complete per fabbriche di nodi da 3 nm.
Posizionamento di mercato
L'iniziativa è in linea con gli obiettivi di autosufficienza della Cina nel settore dei semiconduttori, mirando a:
Quota di mercato del 25% nei componenti nazionali in carburo di silicio entro il 2028
Riduzione del 50% dei tempi di consegna per i rivestimenti avanzati in carburo di silicio
Vantaggio sui costi del 30% rispetto alle alternative importate
Impegni per la sostenibilità
Efficienza energetica: riduzione del 40% del consumo energetico tramite il recupero del calore di scarto
Controllo delle emissioni: filtrazione del particolato al 99,9% nei processi CVD
Utilizzo del materiale: tasso di rendimento superiore al 95% grazie alla lavorazione ottimizzata dall'intelligenza artificiale
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